اخیراً، در SEMICON Taiwan 2026 IC Forum، غول جهانی لیتوگرافی ASML افشای دقیقی در مورد آخرین دادههای اصلی و پیشرفت فناوری ماشینهای لیتوگرافی High{1}NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) خود در حین پیشروی به سمت حجم بالا (HVM) ارائه کرد.
با توجه به مقیاس تولید و تحویل تجهیزات، ASML اعلام کرد که چهار مشتری در سراسر جهان نصب را تکمیل کردهاند و در مجموع 10 سیستم High{1}}NA EUV اکنون کاملاً عملیاتی هستند. سه سیستم دیگر در حال حاضر در مرحله حمل و نقل و نصب هستند. تا به امروز، این ماشینها به طور تجمعی بیش از 1.35 میلیون ویفر را در معرض دید قرار دادهاند که نشاندهنده گذار این فناوری از اعتبارسنجی آزمایشی به کاربرد صنعتی در مقیاس کامل است. قابلتوجه، اینتل با استفاده از این فناوری برای تولید انبوه-سریهای Core Ultra سری 3 (با نام رمز Panther Lake) در گره پردازشی Intel 18A خود پیشتاز شد و اولین شرکتی در سطح جهان شد که با استفاده از High{11}NA EUV به ارسالهای{10}}حجمی بالا تراشههای منطقی دست یافت.
از نظر عملکرد و پایداری تجهیزات، اولین مدل تولیدی-نسل-تولید انبوه، EXE:5200B، در طول آزمایش پذیرش، به توان عملیاتی 135 ویفر در ساعت (WPH) دست یافته است که با استانداردهای HVM مطابقت دارد. در همین حال، نرخ در دسترس بودن ناوگان جهانی به 84 درصد افزایش یافته است. پروژه های ASML این نرخ تا پایان سال 2026 به 90 درصد خواهد رسید، با هدف بلندمدت 93 درصد-. ASML با استفاده از تجربه تعمیر و نگهداری از پلتفرم NXE موجود خود، اطمینان حاصل کرده است که عملکرد همپوشانی و تمرکز ماشینها الزامات تولید انبوه{12} سختگیرانه را برآورده میکند.
با توجه به مزیتهای تکنولوژیکی و نقشههای راه آینده، در مقایسه با سیستمهای NA EUV 0.33 قبلی، 0.55 NA High-NA EUV وضوح عالی ارائه میدهد. این امکان را میدهد که-الگوسازی منفرد جایگزین الگوهای چندگانه{5}}پیچیده شود، به طور مستقیم نرخ عیب، زمان چرخه تولید و هزینههای کلی را برای گرههای پیشرفته کاهش میدهد. علاوه بر این، این فناوری فضاهای طراحی جدیدی را برای چیدمانهای تراشههای دوبعدی باز میکند و به طور بالقوه تعداد کل لایههای اتصال فلزی را کاهش میدهد. با نگاهی به آینده، ASML یک نقشه راه فناوری پایدار را در طول یک دهه ایجاد کرده است. با افزایش قدرت منبع نور EUV (از 600 وات به 1000 وات) و بهینه سازی سایر فرآیندهای مکانیکی، این شرکت در نظر دارد تا توان عملیاتی تجهیزات را تا پایان این دهه به 180 WPH افزایش دهد و به ارائه پشتیبانی اصلی برای تولید نیمه هادی از گره 2 نانومتری تا عصر آنگستروم ادامه دهد.
